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■ 品名：高纯金属靶材 钛
■ 化学式：Ti
■ 纯度：2N 3N 4N 4N5
■ 靶型：平面/旋转
■ 具体尺寸按客户要求定制
高纯金属靶材是由高纯度单一金属制成，如铝、铜、钛、钽等，具有成分均一、性能稳定的特点。其高纯度确保溅射薄膜低杂质、高导电性，广泛应用于半导体互连线、光学反射层、扩散阻挡层等领域。高纯度金属靶材是通过精密熔炼和加工工艺，能满足高均匀性镀膜需求，是微电子、显示及光伏产业的核心基础材料。
